高灵敏度： 采用高NA，低像差的高性能成像系统
工艺适应性：宽光谱光源且可加偏振，对FinFET制程具有良好的工艺适应性
极佳CoO：超精高速运动平台配合高性能量测算法
用户友好：自动量测模式选择，自动处方生成，节约处方生成时间
工厂自动化：支持SECS/GEM SEMI标准，全面满足工厂自动化需求
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